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      Journal Of X-ray Science And Technology
      • 數(shù)據(jù)庫收錄SCIE
      • 創(chuàng)刊年份1989年
      • 年發(fā)文量84
      • H-index28

      Journal Of X-ray Science And Technology

      期刊中文名:X射線科學與技術雜志ISSN:0895-3996E-ISSN:1095-9114

      該雜志國際簡稱:J X-RAY SCI TECHNOL,是由出版商IOS Press出版的一本致力于發(fā)布醫(yī)學研究新成果的的專業(yè)學術期刊。該雜志以INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION研究為重點,主要發(fā)表刊登有創(chuàng)見的學術論文文章、行業(yè)最新科研成果,扼要報道階段性研究成果和重要研究工作的最新進展,選載對學科發(fā)展起指導作用的綜述與專論,促進學術發(fā)展,為廣大讀者服務。該刊是一本國際優(yōu)秀雜志,在國際上有很高的學術影響力。

      基本信息:
      期刊簡稱:J X-RAY SCI TECHNOL
      是否OA:未開放
      是否預警:
      Gold OA文章占比:5.91%
      出版信息:
      出版地區(qū):NETHERLANDS
      出版周期:Quarterly
      出版語言:English
      出版商:IOS Press
      評價信息:
      中科院分區(qū):3區(qū)
      JCR分區(qū):Q3
      影響因子:1.7
      CiteScore:4.9
      雜志介紹 中科院JCR分區(qū) JCR分區(qū) CiteScore 投稿經(jīng)驗

      雜志介紹

      Journal Of X-ray Science And Technology雜志介紹

      《Journal Of X-ray Science And Technology》是一本以English為主的未開放獲取國際優(yōu)秀期刊,中文名稱X射線科學與技術雜志,本刊主要出版、報道醫(yī)學-INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION領域的研究動態(tài)以及在該領域取得的各方面的經(jīng)驗和科研成果,介紹該領域有關本專業(yè)的最新進展,探討行業(yè)發(fā)展的思路和方法,以促進學術信息交流,提高行業(yè)發(fā)展。該刊已被國際權威數(shù)據(jù)庫SCIE收錄,為該領域相關學科的發(fā)展起到了良好的推動作用,也得到了本專業(yè)人員的廣泛認可。該刊最新影響因子為1.7,最新CiteScore 指數(shù)為4.9。

      本刊近期中國學者發(fā)表的論文主要有:

      • Super-resolution image reconstruction from sparsity regularization and deep residual-learned priors

        Author: Zhong, Xinyi; Liang, Ningning; Cai, Ailong; Yu, Xiaohuan; Li, Lei; Yan, Bin

      • Mineral quantitative characterization method based on basis material decomposition model by dual-energy computed tomography

        Author: Zhi, Weijuan; Zou, Jing; Zhao, Jintao; Xia, Xiaoqin

      • An Innovative Low-dose CT Inpainting Algorithm based on Limited-angle Imaging Inpainting Model

        Author: Zhang, Ziheng; Yang, Minghan; Li, Huijuan; Chen, Shuai; Wang, Jianye; Xu, Lei

      • Radiomics nomogram for predicting axillary lymph node metastasis in breast cancer based on DCE-MRI: A multicenter study

        Author: Zhang, Jiwen; Zhang, Zhongsheng; Mao, Ning; Zhang, Haicheng; Gao, Jing; Wang, Bin; Ren, Jianlin; Liu, Xin; Zhang, Binyue; Dou, Tingyao; Li, Wenjuan; Wang, Yanhong; Jia, Hongyan

      英文介紹

      Journal Of X-ray Science And Technology雜志英文介紹

      Research areas within the scope of the journal include:

      Interaction of x-rays with matter: x-ray phenomena, biological effects of radiation, radiation safety and optical constants

      X-ray sources: x-rays from synchrotrons, x-ray lasers, plasmas, and other sources, conventional or unconventional

      Optical elements: grazing incidence optics, multilayer mirrors, zone plates, gratings, other diffraction optics

      Optical instruments: interferometers, spectrometers, microscopes, telescopes, microprobes

      中科院SCI分區(qū)

      Journal Of X-ray Science And Technology雜志中科院分區(qū)信息

      2023年12月升級版
      綜述:
      TOP期刊:
      大類:醫(yī)學 3區(qū)
      小類:

      INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION
      儀器儀表 3區(qū)

      OPTICS
      光學 3區(qū)

      PHYSICS, APPLIED
      物理:應用 3區(qū)

      2022年12月升級版
      綜述:
      TOP期刊:
      大類:醫(yī)學 4區(qū)
      小類:

      INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION
      儀器儀表 4區(qū)

      OPTICS
      光學 4區(qū)

      PHYSICS, APPLIED
      物理:應用 4區(qū)

      2021年12月舊的升級版
      綜述:
      TOP期刊:
      大類:醫(yī)學 4區(qū)
      小類:

      INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION
      儀器儀表 4區(qū)

      OPTICS
      光學 4區(qū)

      PHYSICS, APPLIED
      物理:應用 4區(qū)

      2021年12月基礎版
      綜述:
      TOP期刊:
      大類:醫(yī)學 4區(qū)
      小類:

      INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION
      儀器儀表 4區(qū)

      OPTICS
      光學 4區(qū)

      PHYSICS, APPLIED
      物理:應用 4區(qū)

      2021年12月升級版
      綜述:
      TOP期刊:
      大類:醫(yī)學 4區(qū)
      小類:

      INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION
      儀器儀表 4區(qū)

      OPTICS
      光學 4區(qū)

      PHYSICS, APPLIED
      物理:應用 4區(qū)

      2020年12月舊的升級版
      綜述:
      TOP期刊:
      大類:醫(yī)學 4區(qū)
      小類:

      INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION
      儀器儀表 4區(qū)

      OPTICS
      光學 4區(qū)

      PHYSICS, APPLIED
      物理:應用 4區(qū)

      中科院SCI分區(qū):是中國科學院文獻情報中心科學計量中心的科學研究成果。期刊分區(qū)表自2004年開始發(fā)布,延續(xù)至今;2019年推出升級版,實現(xiàn)基礎版、升級版并存過渡,2022年只發(fā)布升級版,期刊分區(qū)表數(shù)據(jù)每年底發(fā)布。 中科院分區(qū)為4個區(qū)。中科院分區(qū)采用刊物前3年影響因子平均值進行分區(qū),即前5%為該類1區(qū),6%~20%為2區(qū)、21%~50%為3區(qū),其余的為4區(qū)。1區(qū)和2區(qū)雜志很少,雜志質量相對也高,基本都是本領域的頂級期刊。

      JCR分區(qū)(2023-2024年最新版)

      Journal Of X-ray Science And Technology雜志 JCR分區(qū)信息

      按JIF指標學科分區(qū)
      學科:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION
      收錄子集:SCIE
      分區(qū):Q3
      排名:44 / 76
      百分位:

      42.8%

      學科:OPTICS
      收錄子集:SCIE
      分區(qū):Q3
      排名:73 / 119
      百分位:

      39.1%

      學科:PHYSICS, APPLIED
      收錄子集:SCIE
      分區(qū):Q3
      排名:125 / 179
      百分位:

      30.4%

      按JCI指標學科分區(qū)
      學科:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION
      收錄子集:SCIE
      分區(qū):Q2
      排名:35 / 76
      百分位:

      54.61%

      學科:OPTICS
      收錄子集:SCIE
      分區(qū):Q2
      排名:59 / 120
      百分位:

      51.25%

      學科:PHYSICS, APPLIED
      收錄子集:SCIE
      分區(qū):Q2
      排名:77 / 179
      百分位:

      57.26%

      JCR分區(qū):JCR分區(qū)來自科睿唯安公司,JCR是一個獨特的多學科期刊評價工具,為唯一提供基于引文數(shù)據(jù)的統(tǒng)計信息的期刊評價資源。每年發(fā)布的JCR分區(qū),設置了254個具體學科。JCR分區(qū)根據(jù)每個學科分類按照期刊當年的影響因子高低將期刊平均分為4個區(qū),分別為Q1、Q2、Q3和Q4,各占25%。JCR分區(qū)中期刊的數(shù)量是均勻分為四個部分的。

      CiteScore 評價數(shù)據(jù)(2024年最新版)

      Journal Of X-ray Science And Technology雜志CiteScore 評價數(shù)據(jù)

      • CiteScore 值:4.9
      • SJR:0.501
      • SNIP:0.791
      學科類別 分區(qū) 排名 百分位
      大類:Medicine 小類:Radiology, Nuclear Medicine and Imaging Q2 103 / 333

      69%

      大類:Medicine 小類:Radiation Q2 19 / 58

      68%

      大類:Medicine 小類:Instrumentation Q2 46 / 141

      67%

      大類:Medicine 小類:Condensed Matter Physics Q2 141 / 434

      67%

      大類:Medicine 小類:Electrical and Electronic Engineering Q2 264 / 797

      66%

      歷年影響因子和期刊自引率

      投稿經(jīng)驗

      Journal Of X-ray Science And Technology雜志投稿經(jīng)驗

      該雜志是一本國際優(yōu)秀雜志,在國際上有較高的學術影響力,行業(yè)關注度很高,已被國際權威數(shù)據(jù)庫SCIE收錄,該雜志在INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION綜合專業(yè)領域專業(yè)度認可很高,對稿件內容的創(chuàng)新性和學術性要求很高,作為一本國際優(yōu)秀雜志,一般投稿過審時間都較長,投稿過審時間平均 約3.0個月 ,如果想投稿該刊要做好時間安排。版面費不祥。該雜志近兩年未被列入預警名單,建議您投稿。如您想了解更多投稿政策及投稿方案,請咨詢客服。

      免責聲明

      若用戶需要出版服務,請聯(lián)系出版商:IOS PRESS, NIEUWE HEMWEG 6B, AMSTERDAM, NETHERLANDS, 1013 BG。