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      Ieee Journal Of The Electron Devices Society
      • 數(shù)據(jù)庫收錄SCIE
      • 創(chuàng)刊年份2013年
      • 年發(fā)文量92
      • H-index23

      Ieee Journal Of The Electron Devices Society

      期刊中文名:IEEE電子器件學會雜志ISSN:2168-6734E-ISSN:2168-6734

      該雜志國際簡稱:IEEE J ELECTRON DEVI,是由出版商Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版的一本致力于發(fā)布工程技術(shù)研究新成果的的專業(yè)學術(shù)期刊。該雜志以ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC研究為重點,主要發(fā)表刊登有創(chuàng)見的學術(shù)論文文章、行業(yè)最新科研成果,扼要報道階段性研究成果和重要研究工作的最新進展,選載對學科發(fā)展起指導作用的綜述與專論,促進學術(shù)發(fā)展,為廣大讀者服務。該刊是一本國際優(yōu)秀雜志,在國際上有很高的學術(shù)影響力。

      基本信息:
      期刊簡稱:IEEE J ELECTRON DEVI
      是否OA:開放
      是否預警:
      Gold OA文章占比:97.60%
      出版信息:
      出版地區(qū):UNITED STATES
      出版周期:1 issue/year
      出版語言:English
      出版商:Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
      評價信息:
      中科院分區(qū):3區(qū)
      JCR分區(qū):Q3
      影響因子:2
      CiteScore:5.2
      雜志介紹 中科院JCR分區(qū) JCR分區(qū) CiteScore 投稿經(jīng)驗

      雜志介紹

      Ieee Journal Of The Electron Devices Society雜志介紹

      《Ieee Journal Of The Electron Devices Society》是一本以English為主的開放獲取國際優(yōu)秀期刊,中文名稱IEEE電子器件學會雜志,本刊主要出版、報道工程技術(shù)-ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC領域的研究動態(tài)以及在該領域取得的各方面的經(jīng)驗和科研成果,介紹該領域有關本專業(yè)的最新進展,探討行業(yè)發(fā)展的思路和方法,以促進學術(shù)信息交流,提高行業(yè)發(fā)展。該刊已被國際權(quán)威數(shù)據(jù)庫SCIE收錄,為該領域相關學科的發(fā)展起到了良好的推動作用,也得到了本專業(yè)人員的廣泛認可。該刊最新影響因子為2,最新CiteScore 指數(shù)為5.2。

      本刊近期中國學者發(fā)表的論文主要有:

      • Monolithic Dual-Gate E-Mode Device-Based NAND Logic Block for GaN MIS-HEMTs IC Platform

        Author: Zhu, Yuhao; Li, Fan; Cui, Miao; Fang, Zhicheng; Li, Ang; Yang, Dongyi; Zhao, Yinchao; Wen, Huiqing; Liu, Wen

      • New Insights Into Noise Characteristics of Hot Carrier Induced Defects in Polysilicon Emitter Bipolar Junction Transistors and SiGe HBTs

        Author: Zhu, Kunfeng; Zhang, Peijian; Xu, Zicheng; Wang, Tao; Yi, Xiaohui; Hong, Min; Yang, Yonghui; Zhang, Guangsheng; Liu, Jian; Wei, Jianan; Pu, Yang; Huang, Dong; Luo, Ting; Chen, Xian; Tang, Xinyue; Tan, Kaizhou; Chen, Wensuo

      • Cell Design Consideration in SiC Planar IGBT and Proposal of New SiC IGBT With Improved Performance Trade-Off

        Author: Zhang, Meng; Zhang, Yamin; Li, Baikui; Feng, Shiwei; Hua, Mengyuan; Tang, Xi; Wei, Jin; Chen, Kevin J.

      • Impact of Channel Thickness on the NBTI Behaviors in the Ge-OI pMOSFETs With Al2O3/GeOx Gate Stacks

        Author: Sun, Yu; Schwarzenbach, Walter; Yuan, Sicong; Chen, Zhuo; Yang, Yanbin; Nguyen, Bich-Yen; Gao, Dawei; Zhang, Rui

      英文介紹

      Ieee Journal Of The Electron Devices Society雜志英文介紹

      The IEEE Journal of the Electron Devices Society (J-EDS) is an open-access, fully electronic scientific journal publishing papers ranging from fundamental to applied research that are scientifically rigorous and relevant to electron devices. The J-EDS publishes original and significant contributions relating to the theory, modelling, design, performance, and reliability of electron and ion integrated circuit devices and interconnects, involving insulators, metals, organic materials, micro-plasmas, semiconductors, quantum-effect structures, vacuum devices, and emerging materials with applications in bioelectronics, biomedical electronics, computation, communications, displays, microelectromechanics, imaging, micro-actuators, nanodevices, optoelectronics, photovoltaics, power IC's, and micro-sensors. Tutorial and review papers on these subjects are, also, published. And, occasionally special issues with a collection of papers on particular areas in more depth and breadth are, also, published. J-EDS publishes all papers that are judged to be technically valid and original.

      中科院SCI分區(qū)

      Ieee Journal Of The Electron Devices Society雜志中科院分區(qū)信息

      2023年12月升級版
      綜述:
      TOP期刊:
      大類:工程技術(shù) 3區(qū)
      小類:

      ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
      工程:電子與電氣 4區(qū)

      2022年12月升級版
      綜述:
      TOP期刊:
      大類:工程技術(shù) 3區(qū)
      小類:

      ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
      工程:電子與電氣 3區(qū)

      2021年12月舊的升級版
      綜述:
      TOP期刊:
      大類:工程技術(shù) 3區(qū)
      小類:

      ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
      工程:電子與電氣 3區(qū)

      2021年12月基礎版
      綜述:
      TOP期刊:
      大類:工程技術(shù) 4區(qū)
      小類:

      ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
      工程:電子與電氣 4區(qū)

      2021年12月升級版
      綜述:
      TOP期刊:
      大類:工程技術(shù) 3區(qū)
      小類:

      ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
      工程:電子與電氣 3區(qū)

      2020年12月舊的升級版
      綜述:
      TOP期刊:
      大類:工程技術(shù) 3區(qū)
      小類:

      ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
      工程:電子與電氣 3區(qū)

      中科院SCI分區(qū):是中國科學院文獻情報中心科學計量中心的科學研究成果。期刊分區(qū)表自2004年開始發(fā)布,延續(xù)至今;2019年推出升級版,實現(xiàn)基礎版、升級版并存過渡,2022年只發(fā)布升級版,期刊分區(qū)表數(shù)據(jù)每年底發(fā)布。 中科院分區(qū)為4個區(qū)。中科院分區(qū)采用刊物前3年影響因子平均值進行分區(qū),即前5%為該類1區(qū),6%~20%為2區(qū)、21%~50%為3區(qū),其余的為4區(qū)。1區(qū)和2區(qū)雜志很少,雜志質(zhì)量相對也高,基本都是本領域的頂級期刊。

      JCR分區(qū)(2023-2024年最新版)

      Ieee Journal Of The Electron Devices Society雜志 JCR分區(qū)信息

      按JIF指標學科分區(qū)
      學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
      收錄子集:SCIE
      分區(qū):Q3
      排名:202 / 352
      百分位:

      42.8%

      按JCI指標學科分區(qū)
      學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
      收錄子集:SCIE
      分區(qū):Q3
      排名:179 / 354
      百分位:

      49.58%

      JCR分區(qū):JCR分區(qū)來自科睿唯安公司,JCR是一個獨特的多學科期刊評價工具,為唯一提供基于引文數(shù)據(jù)的統(tǒng)計信息的期刊評價資源。每年發(fā)布的JCR分區(qū),設置了254個具體學科。JCR分區(qū)根據(jù)每個學科分類按照期刊當年的影響因子高低將期刊平均分為4個區(qū),分別為Q1、Q2、Q3和Q4,各占25%。JCR分區(qū)中期刊的數(shù)量是均勻分為四個部分的。

      CiteScore 評價數(shù)據(jù)(2024年最新版)

      Ieee Journal Of The Electron Devices Society雜志CiteScore 評價數(shù)據(jù)

      • CiteScore 值:5.2
      • SJR:0.505
      • SNIP:0.955
      學科類別 分區(qū) 排名 百分位
      大類:Materials Science 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q2 90 / 284

      68%

      大類:Materials Science 小類:Electrical and Electronic Engineering Q2 253 / 797

      68%

      大類:Materials Science 小類:Biotechnology Q2 139 / 311

      55%

      歷年影響因子和期刊自引率

      投稿經(jīng)驗

      Ieee Journal Of The Electron Devices Society雜志投稿經(jīng)驗

      該雜志是一本國際優(yōu)秀雜志,在國際上有較高的學術(shù)影響力,行業(yè)關注度很高,已被國際權(quán)威數(shù)據(jù)庫SCIE收錄,該雜志在ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC綜合專業(yè)領域?qū)I(yè)度認可很高,對稿件內(nèi)容的創(chuàng)新性和學術(shù)性要求很高,作為一本國際優(yōu)秀雜志,一般投稿過審時間都較長,投稿過審時間平均 9 Weeks ,如果想投稿該刊要做好時間安排。版面費不祥。該雜志近兩年未被列入預警名單,建議您投稿。如您想了解更多投稿政策及投稿方案,請咨詢客服。

      免責聲明

      若用戶需要出版服務,請聯(lián)系出版商:445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。